第44回 集積回路技術講習会

　夏休みを利用して、私ども集積電子システム工学分野（旧電子デバイス大講座）は、社会人の方々を対象とした集積回路技術講習会を毎年行っております。

　これは、豊橋技術科学大学が掲げる建学の精神『産学共同』の一環として、実験設備と我々の研究成果を学外の方に利用していただくためのものです。2026年度は下記のスケジュールで講習会を開催を予定しています。

　ぜひ、この機会にご参加くださいますようご案内いたします。(チラシ(PDF))

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記

日時：

2026年7月27日（月）～7月31日（金）の5日間、午前9時～午後7時

場所：

豊橋技術科学大学 IRES²-2(研究棟) LSI工場, IRES²-4(LSI棟）
固体機能デバイス研究施設 (Electron Device Research Center)

内容：

1. nMOS集積回路の製作
   • リングオシレータ
   • 4ビットカウンタ
   • インバータ
   • D-Type MOS, E-Type MOS
   • C-V特性評価用MOSダイオード
2. 特性測定と評価
3. 講義
   • 「集積回路製造技術の基礎」
   • 「MOS集積回路の基礎と製造技術」
   • 「最新の集積回路（VLSI）技術」

スケジュール：

	集積回路プロセス	講義など
第1日目	フィールド酸化 レジスト塗布＆ホトリソ(I) エッチング＆レジスト除去	自己紹介 説明会 講義(I)
第2日目	レジスト塗布＆プリベーク ホトリソ(II) イオン注入 洗浄 ゲート酸化 Poly-Si LPCVD	講義(II)
第3日目	レジスト塗布＆プリベーク ホトリソ(III) RIE SiO2エッチング＆レジスト除去 洗浄 リン拡散 リンガラス除去＆洗浄 SiO2-CVD	講義(III)
第4日目	レジスト塗布＆プリベーク ホトリソ(IV) エッチング＆レジスト除去 レジスト塗布＆ホトリソ(IV)' エッチング＆レジスト除去 (上記、エッチング＆レジスト除去と同様) Alスパッタ レジスト塗布＆プリベーク ホトリソ(V) Alエッチング＆レジスト剥離
第5日目	特性チェック	意見交換会

申込み・問合せ先：

参加を希望される方は申込書を e-mail にて下記まで送付ください。

豊橋技術科学大学 社会連携推進センター／研究推進課　産学連携係

E-mail: jinzai@office.tut.ac.jp

開催案内・申込書(PDF)

申込書(MS-WORD)

申込み締切り：

2026年6月19日 (定員10名になりしだい締め切らせていただきます)

主催：

次世代半導体・センサ科学(IRES²)

共催：

電気・電子情報工学系 集積電子システム分野, 社会連携推進センター

実施担当：

〒441-8580
愛知県豊橋市天伯町雲雀ケ丘1-1
豊橋技術科学大学
次世代半導体・センサ科学研究所, 電気・電子情報工学系 集積電子システム工学分野

澤田 和明, 石川 靖彦，岡田 浩, 後藤 正英, 吉村 武, 河野 剛士, 高橋一浩, 須藤 稔
野田 俊彦, 山根啓輔，Choi Yong Jonn
Jose Alberto Piedra Lorenzana, Kwon Ik Hyun
飛沢 健, 赤井 大輔, 土井 英夫