第37回 集積回路技術講習会

Last updated Mar 30, 2017


 夏休みを利用して、私ども集積電子システム工学分野(旧電子デバイス大講座)は、企業の方を対象とした集積回路技術講習会を毎年行っております。

 これは、豊橋技術科学大学が掲げる建学の精神『産学共同』の一環として、実験設備と我々の研究成果を学外の方に利用していただくためのものです。今年度も下記のスケジュールで講習会を開催いたします。

 ぜひ、この機会にご参加くださいますようご案内いたします。

日時 | 場所 | 内容 | スケジュール | 問い合わせ

日時:

平成29年7月24日(月)〜7月28日(金)の5日間、午前9時〜午後7時

場所:

豊橋技術科学大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー (VBL)
固体機能デバイス研究施設 (Electron Device Research Center)

内容:
  1. nMOS集積回路の製作
    • リングオシレータ
    • 4ビットカウンタ
    • インバータ
    • D-Type MOS, E-Type MOS
    • C-V特性評価用MOSダイオード
  2. 特性測定と評価
  3. 講義
    • 「集積回路製造技術の基礎」
    • 「MOS集積回路の基礎と製造技術」
    • 「最新の集積回路(VLSI)技術」
スケジュール:
  集積回路プロセス 講義など
第1日目
  • フィールド酸化
  • レジスト塗布&ホトリソ(I)
  • エッチング&レジスト除去
  • 自己紹介
  • 説明会
  • 講義(I)
第2日目
  • レジスト塗布&プリベーク
  • ホトリソ(II)
  • イオン注入
  • 洗浄
  • ゲート酸化
  • Poly-Si LPCVD
  • 講義(II)
第3日目
  • レジスト塗布&プリベーク
  • ホトリソ(III)
  • RIE
  • SiO2エッチング&レジスト除去
  • 洗浄
  • リン拡散
  • リンガラス除去&洗浄
  • SiO2-CVD
  • 講義(III)
第4日目
  • レジスト塗布&プリベーク
  • ホトリソ(IV)
  • エッチング&レジスト除去
  • レジスト塗布&ホトリソ(IV)'
  • エッチング&レジスト除去
    (上記、エッチング&レジスト除去と同様)
  • Alスパッタ
  • レジスト塗布&プリベーク
  • ホトリソ(V)
  • Alエッチング&レジスト剥離
第5日目
  • 特性チェック
  • 意見交換会

講習会参加者はこちらから詳細なスケジュールをご覧いただけます(既にお知らせしたパスワードの入力が必要です)

申込み・問合せ先:

参加を希望される方は申込書を e-mail もしくは FAX にて下記まで送付ください。

豊橋技術科学大学 研究支援課 社会連携支援室 上田・大場

E-mail: jinzai@office.tut.ac.jp

FAX: 0532-44-6568

開催案内・申込書(PDF)

申込書(MS-WORD)

申込み締切り:

平成29年7月7日(お早めにお問い合わせください)
(定員10名になりしだい締め切らせていただきます)

主催:

電気・電子情報工学系

共催:

社会連携推進センター

協賛:

(社)応用物理学会 集積化MEMS技術研究会

(社)応用物理学会 東海支部

(社)電気学会 センサ・マイクロマシン部門

(社)電子情報通信学会 電子デバイス研究会

(社)電子情報通信学会 東海支部

(社)日本真空学会 東海支部

実施担当:
〒441-8580
愛知県豊橋市天伯町雲雀ケ丘1-1
豊橋技術科学大学
電気・電子情報工学系 集積電子システム工学分野, エレクトロニクス先端融合研究所

若原 昭浩, 澤田 和明, 石川 靖彦
岡田 浩, 河野 剛士
高橋一浩, 関口 寛人, 赤井 大輔, 秋田一平, 岩田達哉, 山根啓輔
高瀬 博行, 飛沢 健, 大学院生


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