第32回 集積回路技術講習会

Last updated May 2012


夏休みを利用して、私ども集積電子システム工学分野(旧電子デバイス大講座)は、企業の方を対象とした集積回路技術講習会を毎年行っております。

これは、豊橋技術科学大学が掲げる建学の精神『産学共同』の一環として、実験設備と我々の研究成果を学外の方に利用していただくためのものです。平成24年度も下記のスケジュールで講習会を開催いたします。

是非、この機にご参加くださいますようご案内いたします。

日時 | 場所 | 内容 | スケジュール | 問い合わせ

日時:

平成24年7月23日(月)〜7月27日(金)の5日間,午前9時〜午後7時


場所: 豊橋技術科学大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー (VBL)
固体機能デバイス研究施設 (Electron Device Research Center)
内容:
  1. MOS集積回路の製作
    • リングオシレータ
    • 4ビットカウンタ
    • インバータ
    • D-Type MOS, E-Type MOS
    • C-V特性評価用MOSダイオード
  2. 特性測定と評価
  3. 回路設計

    リングオシレータ, カウンタ回路のシミュレーションとCAD設計の実習

  4. 講義 (各3時間)
    • 「半導体デバイスの基礎」
    • 「MOS集積回路の基礎と製造技術」
    • 「最新の集積回路(超LSI)技術」
スケジュール:
  集積回路プロセス 講義など
第1日目
  • フィールド酸化
  • レジスト塗布&ホトリソ(I)
  • エッチング&レジスト除去
  • 自己紹介
  • 説明会
  • 講義(I)
第2日目
  • レジスト塗布&プリベーク
  • ホトリソ(II)
  • イオン注入
  • 洗浄
  • ゲート酸化
  • Poly-Si LPCVD
  • CAD講義・実習
第3日目
  • レジスト塗布&プリベーク
  • ホトリソ(III)
  • RIE
  • SiO2エッチング&レジスト除去
  • 洗浄
  • リン拡散
  • リンガラス除去&洗浄
  • SiO2-CVD
  • 講義(II)
第4日目
  • レジスト塗布&プリベーク
  • ホトリソ(IV)
  • エッチング&レジスト除去
  • レジスト塗布&ホトリソ(IV)'
  • エッチング&レジスト除去
    (上記、エッチング&レジスト除去と同様)
  • Alスパッタ
  • レジスト塗布&プリベーク
  • ホトリソ(V)
  • Alエッチング&レジスト剥離
  • 講義(III)
第5日目
  • 特性チェック
  • 反省会

講習会参加者はこちらから詳細なスケジュールをご覧いただけます(既にお知らせしたパスワードの入力が必要です)

問い合わせ:

参加を希望される方は詳細をe-mailもしくはFAXにてお問い合わせください。

〒441-8580
愛知県豊橋市天伯町雲雀ケ丘1-1
豊橋技術科学大学
電気・電子情報工学系 集積電子システム工学分野

石田 誠, 若原 昭浩, 澤田 和明
原田八十雄, 岡田 浩, 村上裕二, 河野 剛士
赤井 大輔, 高橋一浩, 関口 寛人, 秋田一平
足木 光昭, 高瀬 博行, 二川 雅登

e-mails: vbl-office@vbl.tut.ac.jp: VBL office, shirai@ee.tut.ac.jp: 白井

FAX: 0532-44-6757(白井)

申込み締切り:

平成24年7月6日(金) (お早めにお問い合わせください)


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